OHKURA大仓 水位计 卧式扩散炉
卧式扩散炉是一种用于半导体制造工艺中热处理的系统。其结构将加热腔水平安装，并可叠放2至4层，有效利用纵向空间。热处理种类包括扩散、氧化等，处理温度范围从低温到高温，采用本公司自主研发的高性能控制器，可满足多种工艺需求。

卧式扩散炉是一种用于半导体制造工艺中热处理的系统。其结构将加热腔水平安装，并可叠放2至4层，有效利用纵向空间。热处理种类包括扩散、氧化等，处理温度范围从低温到高温，采用本公司自主研发的高性能控制器，可满足多种工艺需求。

OHKURA大仓  水位计 卧式扩散炉

特点

■均热性能的提升

通过根据使用温度匹配的加热器与本公司自主研发的高性能控制器相结合，实现了稳定的温度控制和良好的均温效果。

■可兼容100～200mm晶圆

扩散炉系统覆盖φ100mm至φ200mm，可根据客户的需求提供相应的扩散炉。

■易于维护

热电偶与加热器的更换，在其他加热器仍在升温时亦可安全进行。

■性价比

通过选用优质零部件并采用精简合理的结构，实现了低成本。

■支持升级改造

将外形尺寸控制到最小，即使在老旧且空间有限的系统中也能轻松实现升级改造。

OHKURA大仓  水位计 卧式扩散炉

炉体结构：2–4 层水平堆叠，立式空间利用率高。

尺寸（4 层标准）：

4 英寸：W1850×D700×H2150mm

6 英寸：W2300×D850×H2395mm

8 英寸：W2650×D1200×H2580mm

核心配置：3 区独立控温，均热区长（800–900mm），温控精度 ±1.0℃。

适用场景：半导体4–8 英寸晶圆氧化、扩散等热处理。

设计优势：维护便捷（不停炉更换加热 / 测温组件）、适配老旧产线翻新。