OHKURA大仓 水位计 立式热处理炉
本装置是用于半导体制造工艺中热处理工序的立式热处理炉（扩散炉）。当前，半导体制造领域正由大批量生产模式向多品种小批量生产模式转变。本装置具备小容量、高速处理能力，并且尺寸设计便于安装于现有洁净室。

卧式扩散炉是一种用于半导体制造工艺中热处理的系统。其结构将加热腔水平安装，并可叠放2至4层，有效利用纵向空间。热处理种类包括扩散、氧化等，处理温度范围从低温到高温，采用本公司自主研发的高性能控制器，可满足多种工艺需求。

OHKURA大仓  水位计 立式热处理炉

特点

■可实现快速升降温（支持FTP）

采用立式电阻加热方式的独特加热器，可实现快速升温与高温保持，一台设备即可完成快速升降温处理与常规处理。

■本公司的晶圆搬运系统

采用本公司的晶圆搬运系统，确保驱动部件具有高可靠性。

■配备频率转换机构

可将载片槽间距调整为任意值，从而实现晶圆的转移。（设定范围：4.76～9.52毫米）晶圆的输送采用卡盒对卡盒的方式。

■注重生产效率与操作便捷性的设备

操作部分采用了配备触摸屏的TFT面板，使设备具备出色的生产效率与良好的操作性。

■可实现晶圆低温装炉

可实现晶圆低温装炉，显著降低大气卷入的影响。

■安全且便捷的反应管装卸

采用自动升降装置，使反应管的装卸更加安全、便捷。

■独特的温度调节系统

由于加热器及温度调节系统采用了的技术方案，温度恢复特性得到了显著提升。

■良好的维护性

即使多台设备并排布置，其设计也充分考虑了维护与操作的便利性，确保不会受到影响。

OHKURA大仓  水位计 立式热处理炉

卧式扩散炉是一种用于半导体制造工艺中热处理的系统。其结构将加热腔水平安装，并可叠放2至4层，有效利用纵向空间。热处理种类包括扩散、氧化等，处理温度范围从低温到高温，采用本公司自主研发的高性能控制器，可满足多种工艺需求。